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製品の詳細
エンジニアにとって、メディアを識別する/平面基板のナノスケール欠陥の課題は非常に時間がかかるプロセスであり、Park NX-HDM原子間力顕微鏡システムは自動的に欠陥識別ができ、各種光学機器との併用により欠陥検出効率を高めることができ、縮小しつつある設備需要を満たすために超平坦な媒体と基板を必要とする業界が増えている。Park NX-HDM原子間力顕微鏡システムは業界最低0.5オングストローム騒音を発生させ、それと真の非接触モードを結合して、オングストローム級表面粗さの試験を実現する。
基本技術パラメータ
200 mmでんどうXYプラットフォーム |
でんどうZプラットフォーム |
ノイズ |
行程が達する150mm x 150mm, 2 μmさいげんせい0.095nm解像度 |
25 mm Zストローク距離 0.1μm解像度がより小さい1μmさいげんせい |
より小さい0.5 μm/s
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寸法すんぽう&じゅうりょう |
コントロールボックス |
設備要件環境 |
880(w)x 880(d)x 880(h) 620kg |
600(w)x 900(d)x 1330(h) 170kg |
室温10 ℃~40℃ 操作18 ℃~24℃ しつど30%~60% |
主な機能
1)高速自動欠陥検出機能
2)オングストローム級表面粗さの測定
3)最小の熱ドリフトがあり、測定データを自動的に分析する
4)オンラインモニタリングテストプロセス、
適用#テキヨウ#
欠陥の自動検出
関連文献
Foucher; R Therese; Y. Lee; S.-I.
オンライン照会